بهينه سازي همزمان پارامترهاي پوليش‌كاري آينه‌هاي مسي

چكيده فرآيند پوليش شيميايي مكانيكي يكي از پركاربردترين روشها در توليد آينههاي فلزي است. در ميان اين آينهها، آينههاي مسي، بيشترين كاربرد را در صنايع ليزر به خصوص ليزرهاي با توان بالا دارد. يكي از مهمترين مشخصه‌هاي آينهها دقت سطح آنها است. اين پارامتر به عوامل متعدد در فرآيند پوليش شيميايي مكانيكي ارتباط دارد. هدف از اين تحقيق، بهينه سازي همزمان پارامترهاي موثر منتخب در فرآيند پوليش آينه مسي مي‌باشد. به منظور گردآوري دادههاي تجربي، از طرح تاگوچي در رويكرد طراحي آزمايشات استفاده شده است. سپس به كمك نتايج آناليز واريانس، وتحليل نسبت سيگنال به نويز، سطوح بهينه پارامترها به منظور بيشينه كردن دقت سطح تعيين شده است. كليد واژه : پوليش شيميايي مكانيكي، مس، طراحي آزمايشات