مطالعه پلاسما يك بعدي شامل چشمه ذرات با توزيع سرعت ماكسولي محصور به كاتد و آند

Study of an one-dimensional plasma including a source of Maxwellian particles enclosed with the cathode and anode

با مفروض گرفتن يك پلاسماي يك بعدي محصور بين كاتد و آند و يك چشمه نقطه‌اي مولد پلاسماي با توزيع ماكسولي بين كاتد و آند، پارامترهايي مانند نسبت چگالي يون به الكترون در چشمه، پتانسيل چشمه و پتانسيل نقطه اي از پلاسما كه در آنجا تفاظل چگالي دوگونه پلاسما به كمينه مقدار خود مي‌رسد (شبه خنثي) بدست آورده شد. در اين مطالعه نرخ توليد الكترون و يون برابر فرض شده است. نسبت چگالي يون به الكترون بدون هيچ تقريبي متناسب با نسبت جرم گونه ها در نسبت دماي گونه ها بدست آمد. مقدار پتانسيل در محل چشمه و در نقطه شبه خنثي با تقريب ميدان قوي بدست آمد. مشاهده شد پتانسيل چشمه براي رژيم ميدان قوي فقط تابعي از نسبت دماهاي گونه هاي متفاوت است و از جرم ها مستقل است. همچنين پتانسيل در نقطه شبه خنثي در رژيم ميدان قوي براي پلاسماهاي يون الكترون بسيار نزديك پتانسيل چشمه است