بررسي الگوهاي ليتوگرافي تشكيل شده تحت تاثير ميدان مغناطيسي با استفاده از فروسيال

Investigation of Lithography patterns formed under the influence of a magnetic field by using Ferrofluids

در اين پژوهش ليتوگرافي نوري با استفاده از فروسيال تحت تاثير ميدان مغناطيسي ارائه شده است. اين فرآيند شامل خودآرايي نانوذرات سيال مغناطيسي تحت تاثير ميدان مغناطيسي مي باشد. هدف ايجاد راه كاري جديد جهت چيدمان كنترل شده نانوذرات به منظور تشكيل اشكال هندسي مختلف مي باشد. براي اين منظور لايه نازكي از فروسيال بر روي فوتورزيستي كه بر روي شيشه تعبيه شده قرار گرفت و تحت تاثير ميدان مغناطيسي عمودي الگوهايي شامل روزنه هاي شبه دوره اي و شش گوشي هاي منظم ميكرومتري تشكيل شد و سپس با استفاده از فرآيندهاي تابش uv و سونش شيمايي الگوهاي ايجاد شده بر روي فوتورزيست انتقال داده شد.

In this thesis photolithography using Ferrofluids under the influence of the magnetic field is presented. This process involves self-assembly of magnetic fluid nanoparticles under magnetic field. The goal is offering a new approach which alignment the controlling nanoparticles to form different geometrical shapes. For this purpose thin layer of ferrofluide on photoresist On glass were embedded and under the influence of vertical field patterns of micron-sized holes were formed quasi-periodic and regular hexagonal. And then using uv radiation and eching chemical processes created on the photoresist patterns were transferred