شماره ركورد كنفرانس :
4648
عنوان مقاله :
بررسي اثر pH بر روي راندمان حذف فوتوكاتاليستي متيل اورانژ با استفاده از نانو ذرات دي اكسيد قلع
پديدآورندگان :
عباسي صديقه s.abbasi@esfarayen.ac.ir مجتمع آموزش عالي فني و مهندسي اسفراين، اسفراين، , حسن پور مريم مجتمع آموزش عالي فني و مهندسي اسفراين، اسفراين،
كليدواژه :
نانو ذرات SnO2 , فعاليت فتوكاتاليستي , آناليز آماري
عنوان كنفرانس :
دومين كنفرانس ملي مكانيك-مواد و فناوري هاي پيشرفته
چكيده فارسي :
در اين تحقيق اثر pH بر روي فعاليت فتوكاتاليست هاي نانو ذرات SnO2 مورد بررسي و مطالعه قرار گرفت. بر اساس نتايج حاصل شده، مشخص مي شود كه راندمان حذف متيل اورانژ با توجه به زمان تابش دهي در طول آزمايش افزايش مي يابد. همچنين بررسي تاثير pH بر روي راندمان حذف آلاينده متيل اورانژ نشان مي دهد كه ميزان فعاليت فتوكاتاليستي نانو ذرات SnO2 مورد بررسي در سوسپانسيون با PH خنثي (pH=7) بالاتر از pH اسيدي (pH=4) و شرايط قليايي (pH=10) مي باشد. نتايج حاصل از تجزيه و تحليل آماري نيز نشان مي دهد كه زمان تابش و pH تاثير قابل توجه معني داري بر روي فعاليت فتوكاتاليستي همه نانو ذرات SnO2 دارد. بر اساس نتايج آزمون Duncan’s مي توان تاييد كرد كه تفاوت قابل توجهي ميان مقادير مختلف pH وجود دارد.
