اصلاح سطح اكسيد تيتانيوم لايه نشاني شده با استفاده از غلاف پلاسماي تخليه الكتريكي گاز آرگون

Surface treatment of titanium oxide deposited thin film using plasma sheath electrical discharge of argon gas

امروزه ساختارهاي نانو خصوصاً ساختارهاي منظم در ابعاد نانو جايگاه ويژهاي در پيشرفتهاي فناورانه دارند. در اين ميان لايه نشاني مواد با نظم خاص در ابعاد نانومتري داراي اهميت بالايي است. در تحقيق حاضر اكسيد تيتانيوم لايه نشاني شده به روش سل- ژل را داخل پلاسماي تخليه الكتريكي گاز آرگون قرار داده و به واسطه ميدان الكتريكي تشكيل يافته از غلاف پلاسما ، ساختارهاي منظم ، در ابعاد نانو ، در سطح اكسيد تيتانيوم ايجاد شده است. تصوير ميكروسكوپ الكتروني روبشي(SEM) و الگوي پراكندگي اشعه ايكس از لايه نازك اكسيد تيتانيوم تشكيل ساختارهاي منظم و بلوري در ابعاد نانو را تاييد مينمايد. روش به كاربرده شده در اين تحقيق براي تهيه سطحي منظم در مقياس نانو 4 به لحاظ صرفه جويي در زمان و انرژي قابل توجه است.

Nowadays, Nano-structures, generally, and organized Nano-structures, specially pose an important role in technological advances. Meanwhile, layer deposition with organized nano-scaled structure is of great importance. In the present work, the layer of TiO2 deposited with sol-jell method is exposed to electrical discharge plasma of argon gas and through the electric field formed in plasma sheath, nano-scaled organized structures of TiO2 are concluded. The scanning electron microscopy (SEM) image and X-ray diffraction patterns from the samples indicate the formation of such structures. The method used in this work for forming surficial organized nano-scaled structure is remarkable as it saves time and energy