شماره ركورد كنفرانس :
3294
عنوان مقاله :
تغيير ترشوندگي لايه هاي نازك Cu20 ساخته شده به روش حمام شيميايي با تغيير ضخامت
عنوان به زبان ديگر :
Wetting behavior of Cu2O thin films prepared by chemical bath deposition method with different thicknesses
پديدآورندگان :
اكبري راضيه دانشگاه تهران - دانشكده فيزيك - آزمايشگاه پژوهشي ابررسانايي , محمدي زاده محمدرضا دانشگاه تهران - دانشكده فيزيك - آزمايشگاه پژوهشي ابررسانايي , خواجه امينيان محسن دانشگاه يزد - گروه فيزيك
كليدواژه :
تغيير ترشوندگي , لايه هاي نازك Cu20 , روش حمام شيميايي , تغيير ضخامت , سولفات مس , پراش پرتو ايكس , اسيدهاي چرب
سال انتشار :
بهمن 1395
عنوان كنفرانس :
سيزدهمين كنفرانس ماده چگال انجمن فيزيك ايران
چكيده فارسي :
در اين پژوهش با الهام از گل نيلوفر به روشي ساده و سريع لايه نازك آب گريز ساختيم. لايه هاي نازك اكسيد مس يك (Cu20) بر روي زيرلايه شيشه، به روش حمام شيميايي ( CBD) با پيش ماده سولفات مس، ساخته شدند. ما 5 لايه با ضخامت هاي مختلف را به منظور بررسي خاصيت آب گريزي لايه هاي اكسيد مس مرئي، دستگاه تعيين تهيه كرديم. به منظور مطالعه مورفولوژي و تركيب شيميايي اين سطوح از ميكروسكوپ نيروي اتمي، پراش پرتو ايكس، طيف سنجي فرابنفش چيده شده در آزمايشگاه و پروفايلومتري استفاده كرديم. بالاترين زاويه تماس مربوط به نمونه با ضخامت تقريبي 220 نانومتر بدون بهبود دهي ثانويه با زاويه تمام باز پخت و اسيدهاي چرب برابر 112 درجه است.
چكيده لاتين :
Inspired by the lotus we fabricated hydrophobic surfaces by a fast and simple method. The copper oxide layers on glass slides were coated by chemical bath deposition method (CBD) using copper sulfate as precursor. We prepared various layers with different numbers of coating cycles to examine wetting properties of copper oxides. The morphologies and chemical composition and optical absorption of the copper oxide layers were characterized by Atomic Force microscopy (AFM), X-ray Diffraction (XRD), UV-Vis spectroscopy, Water Contact Angle measurement (WCA) and Profilometer..The WCA of Cu2O layers was measured to be as high as degrees , without sintering and fatty acid modifications
كشور :
ايران
تعداد صفحه 2 :
4
از صفحه :
1
تا صفحه :
4
لينک به اين مدرک :
بازگشت