وابستگي مغناطو مقاومت ناهمسانگرد فيلمهاي آلياژي فوق نازك NixCU1-x در دماهاي 300K و 77K

Compositional Dependence of Anisotropic Magnetoresistance of Electrodeposited Ultrathin NixCu1-x Heterogeneous Alloy Films at 300 K and 77 K

در اين تحقيق پس ازساخت فيلمهاي فوق نازك آلياژي NixCu1-x به روش الكتروانباشت، تغييرات مغناطومقاومت ناهمسانگرد اين نمونه ها نسبت به ميزان اتمهاي مس موجود در تركيب در دو دماي 300K و 77K مورد بررسي قرار گرفتند. در هر دو دما كاهش مغناطومقاومت با افزايش درصد ميزان مس در فيلم با دو نرخ متفاوت مشاهده گرديد. همچنين بيشينه معناطومقاومت ناهمسانگردي معادل 1.1% و 1.74% به ترتيب در دماهاي 300K و 77K اندازه گيري شد.

In the present work, the dependence of the anisotropic magnetoresistance (AMR) on the composition of pulse-plated ultrathin NixCu1-x heterogeneous alloy films at 300K and 77K was studied. In both cases the AMR of the alloy films decreases with increasing Cu composition but with different rates. AMR up to 1.1% and 1.74% were observed at room temperature and liquid Nitrogen temperature respectively.