اثر عوامل سرعت كشش، عمليات حرارتي و پيرشدگي بر روي خواص اپتيكي لايه هاي نانو ساختار و Sol-Gel ، تهيه شده به روش SiO2 ضد بازتاب

Influence of parameters of Withdrawal speed, Annealing temperature and Aging time on Optical properties of Nanostructure and Antireflective Sol-Gel-Derived Silica Films

با استفاده از فرآيند Sol-Gel و با روش لايه نشاني غوطه وري، پوشش هاي ضد بازتاب SiO2 بر روي بستر لام ميكروسكوپ تهي بررسي UV-Vis شدند . سپس اثر عوامل سرعت كشش، دماي عمليات حرارتي و مدت زمان پيرشدگي بر روي طيف عبوري نمونه هاي تهيه شده، در محدوده شد . افزايش سرعت كشش و نيز افزايش دماي عمليات حرارتي، موجب كاهش ميزان عبور نور شد . زمان پيرشدگي سل، اثر قابل توجهي بر روي ميزان عبور نداشت كه حاكي از پايداري محلول سل مي باشد . براي بررسي ساختار سطحي لايه ها با استفاده از ميكروسكوپ الكتروني از سطح نمونه ها تصوير SEM تهره شد.

Nanostructure and antireflective Sol-Gel-Derived Silica Films was fabricated bay Dip-coating onto microscope glass substrates and the influence of parameters such as withdrawal speed, annealing temperature and aging time on optical properties of films was investigated. The surface morphology of films was investigated with SEM.