تاثير تميزكاري زير لايه بر روي آستانه آسيب ليزري پوشش‌هاي پادبازتابنده در طول موج 1064 نانومتر

The effect of cleaning substrate on laser induced damage threshold of antireflection coating at 1064nm

لايه #38;shy;هاي #38;shy;نازك اپتيكي #38;nbsp;پادبازتابنده داراي كابرد هاي فرواني در صنعت فوتونيك مي #38;shy;باشند، اين لايه #38;shy;ها در پنجره #38;shy;هاي اپتيكي و همچنين لنز ها و ديگر المان #38;shy;هاي اپتيكي كاربرد دارند. همچنين از آنها در پرتو گسترها و ديگر المان #38;shy;هاي اپتيكي كه جهت كانوني كردن پرتو ليزر مي #38;shy;باشد نيز استفاده مي #38;shy;شود. اما بالا رفتن انرژي ليزر باعث تخريب اين نوع از پوشش #38;shy;ها مي #38;shy;شود. در اين مقاله سعي شده است كه با استفاده از سه روش متفاوت تميزكاري روش بهينه #38;shy;اي كه باعث بالارفتن آستانه آسيب ليزري اين پوشش #38;shy;ها مي #38;shy;شود را يافت.

Optical anti reflection thin-film are widely used in the photonic industry, these layers are used in optical window, lenses and other optical elements. They are also used in beam expander and other optical elements that used to focus laser beam. But the rise in laser energy causes the damage of these types of coatings. In this paper, we have tried to find an optimal method using three different methods of cleaning, which would increase the threshold of laser damage to these coatings.