خواص فوتوكاتاليستي پوشش هاي اكسيد تيتانيوم حاصل از فرايند اكسيداسيون الكتروليتي پلاسمائي در حضور تنگستات سديم

در تحقيق حاضر، پوشش متخلخل دي اكسيد تيتانيوم با استفاده از روش اكسيداسيون الكتروليتي پلاسمائي روي سطح تيتانيوم خالص در يك حمام پايه فسفاتي ايجاد شد. پوشش دهي تحت دو شرايط ولتاژ ثابت و جريان ثابت انجام شد و تاثير حضور تنگستات در حمام بر فازهاي ايجاد شده و در نتيجه بر رفتار فوتوكاتاليستي پوشش ها مورد بررسي شد. بررسي هاي فازي و ويژگي هاي ريزساختاري به ترتيب توسط آناليز پراش اشعه ايكس و ميكروسكوپ الكتروني روبشي گسيل ميداني انجام شد. پوشش حاصل از شرايط جريان ثابت، TiO2 با ساختار فازي آناتاز آلائيده با تنگستن را نشان داد درحاليكه پوشش حاصل از شرايط ولتاژ ثابت، يك كامپوزيت TiO2-WO3 بود. عملكرد فوتوكاتاليستي پوشش ها جهت تخريب رنگ متيلن بلو تحت شبيه ساز نور خورشيد و با روش اسپكتروفتومتريUv-vis ارزيابي گرديد. درصد تخريب متيلن بلو توسط پوشش كامپوزيتي برابر با 14 درصد در مدت زمان 360 دقيقه بود، در حالي كه پوشش TiO2آلائيده با تنگستن در مدت زمان 180 دقيقه توانست تخريب 78 درصد را نشان دهد كه حاكي از فعاليت فوتوكاتاليستي قابل توجه آن بود.