بررسي مشخصات نانو مش مس

در اين پژوهش امكان پذيري توليد الكترود شفاف و منعطف بر مبناي نانومش مس بررسي شده است. براي توليد نانومش مس ابتدا بر سطح زيرلايه از جنس پلي اتيلن ترفتالات دومحوره لايه مس به اندازه 50 تا 100 نانو متر بوسيله لايه نشاني فيزيكي تحت خلا لايه نشاني شد. ماسك پليمري بوسيله الكتروريسي محلول پلي استايرن ايجاد شده و بعد از عمليات حرارتي الياف در دماي 130 تا 140درجه سانتيگراد در خلا، بخش هاي محافظت نشده صفحه، بوسيله قرار گرفتن در محلول يك مولار هيدروكسيد پتاسيم از سطح صفحه حذف گرديد و در مرحله نهايي ماسك پليمري ايجاد شده در محلول كلروفرم حل گرديد. هدايت الكتريكي صفحه بوسيله هدايت سنج چهار پروب و تاثير پارامترهاي الكتروريسي بر مشخصات الياف بوسيله تصوير برداري ميكروسكوپ الكتروني روبشي اندازه گيري شد. نتايج نشان داد كه با استفاده از محلول 10% پلي استايرن با ولتاژ 9 كيلوولت امكان ايجاد الياف يكنواخت با قطر 300 تا 400 نانو متر وجود دارد. بر اساس لايه نشاني مس با ضخامت 50 نانومتر و الكتروريسي پلي استايرن، با تغيير شرايط توليد صفحات نهايي توليد شده، مقاومت الكتريكي در محدوده (Ω/□) 40-10 و ميزان عبور نور در حدود % 75-40 را نشان ميدهد.