مطالعه ساختاري و اپتيكي لايه هاي نازك NiO و Cu-NiO لايه نشاني شده به روش كندوپاش

Investigation of copper doping on structural and optical behavior in NiO thin films deposited by RF magnetron reactive sputtering

لایه های نازك NiO همراه با مقادیر مختلف Cu (%18 - 0) با فرآیند كندوپاش مغناطیسی - امواج رادیوئی روی زیرلایه های شیشه ای لایه نشانی شدند. پلاسمای بهینه با مخلوطی از گازهای اكسیژن و آرگون شكل گرفت. طیف پراش اشعه ایكس، تصاویر میكروسكوپ نیروی اتمی و طیف اپتیكی مرئی - فرابنفش برای این لایه ها مورد بررسی قرار گرفت. جهت تعیین میزان تزریق مس و ضخامت لایه ها از آنالیز EDX و SEM استفاده شد. با افزایش تزریق ناخالصی ساختار بلوری بهبود و رشد در جهت بلورینگی (200) فاز مكعبی افزایش یافت. مطالعات اپتیكی كاهش گاف انرژی اپتیكی با افزایش درصد تزریق یون مس را نشان دادند

Different percentages of copper doped NiO thin films were deposited on glass substrates by RF magnetron sputteringprocess, 0-18% in five steps. The plasma were mixture of Ar+O2 with fixed ratio during the coating process. Characterization of these films has been performed using X-ray diffraction, atomic force microscopy and UV-Vis spectroscopy. EDX and SEM has also been done to investigate elemental composition and film thickness. It is interesting that by increasing Cu dopant percentage the crystalline quality increase which is showed by XRD and AFM data. The X-ray diffraction pattern shows that the films have cubic phase with preferred orientation (200). Optical properties showed that by increasing copper dopant the band gap decrease.