جداسازي آمونياك از پساب با استفاده از سيستم تركيبي فتوكاتاليست/فرآيند غشايي

در اين تحقيق، عملكرد سيستم تركيبي فتوكاتاليست/فرآيند غشايي در حذف آمونياك از پساب مورد بررسي قرار گرفت. غشا از نوع الترافيلتراسيون بوده كه با استفاده از پليمر پلي‌اتر‌سولفون به روش تغيير فاز ساخته شد. از نانوذرات سنتز شده فومارات آلوموكسان به عنوان افزودني در ساخت غشا استفاده گرديد. نوع فتوكاتاليست اكسيد روي بوده كه بر روي پايه دانه‌ رس منبسط شده با نام ليكا پوشش داده شد. تاثير عوامل غلظت اوليه آمونياك، ميزان نانوذره و زمان فرآيند تصفيه بر روي حذف آمونياك مورد بررسي قرار گرفت. سيستم‌هاي فتوكاتاليست و غشايي به طور منفرد نيز به كار گرفته و عملكرد آن‌ها از نظر شار و درصد حذف آمونياك با سيستم تركيبي مورد مقايسه قرار گرفتند. نتايج نشان دادند كه سيستم فتوكاتاليست به تنهايي فقط در غلظت‌هاي بالا بخوبي مي‌تواند آمونياك را حذف نمايد. در بين غشاهاي ساخته شده، غشاي پلي‌اترسولفون با ميزان 2% وزني نانوذره از نظر شار خوراك و درصد حذف آمونياك بهترين عملكرد را داشت. در سيستم تركيبي، ابتدا در فتوكاتاليست، آمونياك به غلظت پايين‌تري رسيده و درادامه، فرآيند غشايي غلظت پايين آمونياك را با درصد بالاتري حذف نمود.