اصلاح مورفولوژي سطحي پوشش‌ تنگستني ايجاد شده به روش پاشش پلاسمايي اتمسفري به منظور كاربرد در لامپ توليد پرتو ايكس

پوشش هاي ضخيم تنگستن در ساخت آند لامپ هاي توليد پرتو ايكس مورد استفاده در تجهيزات تشخيص پزشكي كاربرد دارند. با توجه به اهميت صافي سطح آند در كيفيت تصوير راديولوژي حاصل، لازم است قطعه آند تا حد امكان زبري سطحي پاييني داشته باشد و بتواند اين زبري پايين را در شرايط كاري دماي بالا حفظ نمايد.  به منظور بهبود كارآيي اين لامپ ها مورفولوژي سطحي پوشش هاي تنگستني اعمال شده به روش پاشش پلاسمايي اتمسفري بلافاصله پس از پوشش دهي، بعد از عمليات آنيل در اتمسفر هيدروژن و پس از نشاندن لايه اي نازك از تنگستن به روش رسوب شيميايي بخار مطالعه شد. آنيل هيدروژني در اتمسفر هيدروژن مرطوب و دماي °C 1500 به مدت 90 دقيقه انجام شد. رسوب شيميايي بخار به روش دفن نمونه ها در بستري از پودر اكسيد تنگستن و سپس احياي پودر در اتمسفر هيدروژن مرطوب در °C1000 اجرا شد. ريزساختار سطحي پوشش با استفاده از تصاوير ميكروسكوپي الكتروني روبشي، آناليز شيميايي طيف سنجي پراكندگي انرژي، زبري سنجي مكانيكي و پراش پرتو ايكس ارزيابي شد. نتايج نشان داد كه عمليات تكميلي در نظر گرفته شده قادر است ريخت سطحي را از حالت اكسيد شده و زبر به يك ساختار ستوني ظريف با زبري ميانگين كم تر از 1 ميكرومتر تغيير دهد.