امكان سنجي توليد پوشش آلياژي آنتروپي بالاي CoCrFeMnNi به روش رسوب الكتروشيميايي و مشخصه يابي آن

آلياژ هاي آنتروپي بالا (HEA) به‌طورمعمول به‌عنوان آلياژ هاي محلول جامد حاوي بيش از پنج عنصر اصلي با درصد اتمي تقريباً يكسان تعريف‌شده‌اند. آلياژ هاي آنتروپي بالا در دو نوع بالك و پوشش توليد مي‌شود. اغلب اين آلياژ‌ ها به‌صورت بالك بوده و تحقيقات كمتري بر روي توليد آن‌ها به‌صورت پوشش انجام‌گرفته است. يكي از روش‌ هاي كمتر استفاده شده، روش رسوب الكتروشيميايي است. در تحقيق حاضر آلياژ آنتروپي بالاي CoCrFeMnNi به روش رسوب الكتروشيميايي با پتانسيل ثابت در حمام كلريدي با حلال DMFCH3CN توليد شد. اثر اعمال پتانسيل ثابت در مقادير 1 تا 6 ولت بر روي تشكيل آلياژ آنتروپي بالا، ساختار، تركيب و مورفولوژي موردبررسي قرار گرفت. مورفولوژي، تركيب شيميايي و ساختار ميكروسكوپي نمونه هاي حاصل به ترتيب به‌وسيله ميكروسكوپ الكتروني روبشي (SEM)، طيف‌سنج انرژي (EDS) و پراش پرتوايكس لايه‌نازك (GXRD) شناسايي شد. نتايج نشان داد كه امكان پوشش دهي اين آلياژ 5 جزئي در پتانسيل كمتر از 4 ولت وجود ندارد. همچنين نتايج حاصل از آناليز EDS نشان داد كه تغيير در پتانسيل پوشش دهي از 4 تا 6 ولت باعث تغيير در تركيب شيميايي شده است. نكته حائز اهميت آن‌كه در تمامي حالت هاي پوشش حاصل در پتانسيل‌هاي 4، 5 و 6 ولت، آنتروپي اختلاط بيشتر از JK1mol1 12، در محدوده تشكيل آلياژ آنتروپي بالا، بوده است. نتايج حاصل از آناليز GXRD، نيز تشكيل ساختار محلول جامد با شبكه FCC را اثبات نمود. تأثير پتانسيل پوشش دهي بر مورفولوژي پوشش نيز با استفاده از SEM انجام پذيرفت. نتايج نشان داد مورفولوژي پوشش به‌صورت سطحي صاف، بدون ترك و فشرده بوده است.