عنوان مقاله :
بررسي مقايسهاي اثر چگالي جريان آبكاري بر اندازه دانه پوششهاي نانوكريستالي نيكل و نيكل-تنگستن
عنوان به زبان ديگر :
A comparative study on the effect of electrodeposition current density on the grain size of Ni and Ni-W nanocrystalline coatings
پديد آورندگان :
بهرامي فرد، بهار دانشگاه رازي - دانشكده فني مهندسي , رشيدي، علي محمد دانشگاه رازي - دانشكده فني مهندسي
كليدواژه :
اندازه دانه , پوشش نانوكريستال , چگالي جريان آبكاري , پوشش آلياژي نيكل-تنگستن
چكيده فارسي :
چگالي جريان آبكاري يكي از متغيرهاي اساسي فرايند توليد براي كنترل ريزساختار و خواص پوشش هاي نانوكريستال ايجاد شده با فرايند آبكاري است. مكانيزم اثرگذاري اين متغير بر اندازه دانه هاي پوشش تك عنصري ممكن است متفاوت از پوشش آلياژي باشد. براي بررسي اين موضوع، پوشش هاي نيكل و نيكل-تنگستن با استفاده از فرايند آبكاري در محدوده چگالي جريان mA/cm2 90-15 روي زيرلايه مسي اعمال شدند. ساختار پوشش ها با پراش اشعه ايكس (XRD) و ميكروسكپ الكتروني روبشي (SEM) مجهز به سيستم طيف سنجي پراكندگي انرژي پرتو ايكس (EDS) بررسي گرديد. طبق نتايج حاصل، با افزايش چگالي جريان در پوشش هاي نيكل-تنگستن، درصد وزني تنگستن كم شده و تا چگالي جريانmA/cm2 60، ميانگين اندازه دانه ها در حدود nm 5 ثابت باقي ماند اما در مقادير بيش از آن، افزايش چگالي جريان منجر به ايجاد پوشش با دانه هاي درشت تري شد. در مقايسه با اثر چگالي جريان آبكاري بر اندازه دانه هاي پوشش نانوكريستال نيكل-تنگستن، در پوشش نانوكريستال نيكل رفتاري متفاوت مشاهده شد به گونه اي كه ميانگين اندازه دانه هاي پوشش با افزايش چگالي جريان آبكاري در ابتدا طبق يك رابطه تواني معكوس كاهش يافته و پس از آن تغيير محسوسي نداشت. بر اساس اثر چگالي جريان و مقدار يون هاي تنگستن احياء شده بر فرايندهاي جوانه زني و رشد، علت اين تفاوت رفتار توضيح داده شد. همچنين با معرفي كميت جريان نسبي احياء و محاسبه آن با استفاده از منحني هاي ولتامتري، چگونگي اثر چگالي جريان بر مقدار تنگستن در پوشش نانوكريستال نيكل-تنگستن مدل شد.
چكيده لاتين :
The current density of electroplating is one of the vital synthesis variables for control microstructure and properties of electrodeposited nanocrystalline coatings. The mechanism of its effect on the grain size of single element deposits may be different from alloy coatings. In order to evaluate this hypothesis, nickel and nickel-tungsten were electrodeposited on the copper samples by direct current plating at several current densities ranging from 15 mA/cm2 to 90 mA/cm2. The microstructure of the both type prepared coatings were characterized by X-ray diffraction and scanning electron microscopy coupled with energy dispersive X-ray spectrometry. It is observed by increasing the current density, the weight percentage of W in Ni-W coating decreased. Also the grain size of Ni-W coating was remained about 5 nm, independent of current density up to 60 mA/cm2. But beyond 60 mA/cm2 the coating with coarser grains was obtained as current density increased. In comparison, a different behavior was observed for the nickel coating, so that the average grain size was decreased according to inverse power relation with increasing current density up to 60 mA/cm2 and its change was not noticeable at current density beyond 60 mA/cm2. These behavioral difference was explained by the competition between current density and amount of reduced tungsten ions effects on nucleation and growth processes. Also, by introducing a relative reduction current and its calculating using voltammetry data, the effect of current density on the amount of tungsten in Ni-W nanocrystalline coating was modeled.