مشخصات غلاف در يك پلاسماي مغناطيدۀ برخوردي مشتمل بر الكترو‌ن‌هاي نافزونور و يون‌هاي حرارتي

در اين مقاله، تشكيل غلاف و ويژگي‌هاي آن در يك پلاسماي مغناطيده برخوردي شامل الكترو‌ن‌هاي نافزونور و يون‌هاي حرارتي مورد مطالعه قرار مي گيرد. با استفاده از مدل سيالي، معيار بوهم به صورت تابعي از پارامترهاي پلاسما براي سرعت يون‌ها به دست آمده و نشان داده مي شود كه برخورد يون - خنثي حد (كران) بالايي براي معيار بوهم تحميل مي كند. همچنين نشان داده مي شود كه انحراف از توزيع ماكسولي مشخصه هاي غلاف را تحت تأثير قرار مي دهد. به علاوه، اثرات ميدان مغناطيسي، دماي يوني، نافزونوري و بسامد برخورد يون - خنثي بر پتانسيل غلاف و چگالي يون بررسي مي شود. نتايج به دست آمده نشان مي دهند كه با اعمال ميدان مغناطيسي مي توان ضخامت غلاف را كنترل كرد