مشخصه يابي خواص لايه نازك الكترواپتيكي ZnO:Alساخته شده به روش تركيبي كندوپاش پلاسمايي ساده و اكسيداسيون حرارتي

Characterization and fabrication by combination of plasma sputtering and thermal oxidation electro – optical thin film ZnO:Al

علاقه به تحقيق و پژوهش در زمينه پلاسماهاي غباري كه رشته جديدي در فيزيك پلاسما مي باشد با توسعه صنعت ميكروالكترونيك رشد چشمگيري داشته است. ذرات غبار كه تا كنون به عنوان آلودگي در نظر گرفته مي شدند، امروزه در فنآوري هاي لايه گذاري براي صنايع ميكروالكترونيك، اپتيك، الكترواپتيك استفاده مي شوند. در اينجا ما روي پوشش با ذرات غبار از طريق ايجاد لايه نازك ZnO:Al كار مي كنيم. ذرات غبار Zn وAl مي باشند. لايه هاي نازك با روش تركيبي كندوپاش ساده Zn و Al و اكسيداسيون حرارتي آنها ساخته شدند. لايه هاي نازك ZnO:Al با توجه به خواص فيزيكي اي كه دارند شفافيت بالايي در نور مريي و مقاومت الكتريكي پاييني دارند. خواص اپتيكي و الكتريكي لايه هاي مذكور توسط XRD, RBS ، پروب چهار نقطه اي و طيف نمايي نوري در ناحيه طول موج مريي بررسي شدند. مقدار مقاومت در بهترين حالت برابر با 3-10 × 0.905 و در طول موج nm 800-300 ميزان عبوردهي نور 85 درصد بدست آمد.

The interest in dusty plasma research, which is a relatively new field in plasma physics, has increased with the development of microelectronics. The dust particles appear as pollutant in this industrial processing. Recently, however, they are seen from a different point of views – they can be useful in coatings various technologies for microelectronic, optic, electro-optic industrial. In this investigation we have concentrated on coating of dust particles by ZnO:Al thin film. Dust particles in the investigation are Zn, Al. Thin films are fabrication by Combination of Plasma Sputtering Zn, Al and Thermal Oxidation. These thin films have special physical properties, such as large bond strength, ZnO thin films exhibit high transparency in visible region and low electrical resistively. The electrical and optical properties of ZnO:Al thin films were evaluated by XRD, RBS, the linear four point probe method and visible spectroscopy. The best electrical properties obtain and the transparent in 300-800 nm wavelengths is 85 percent.