ريزساختار و خواص لايه هاي نازك اكسيد واناديم(VOx) تهيه شده در دستگاه كند و پاش مغناطيسي واكنشي

Microstructure and properties of vanadium oxide (VOx) thin films prepared in a reactive magnetron sputtering system

لايه هاي نازك اكسيد واناديم(VOx) در سيستم كند و پاش مغناطيسي جريان مستقيم تهيه شدند. به منظور دستيابي به فازهايمختلف از اكسيد واناديم، نمونه ها تحت دماها و اتمسفرهاي مختلف آنيل شدند. در ابتدالايه هاي نازك اكسيد واناديم(VOx)بدست آمده در دو دماي مختلف 450 و 500oC آنيل شدند. هر دو لايه شامل تركيبي از فازهاي VO2(M) و V2O5 بودند. فاز غالب در دماي 450oC فاز VO2(M) بود كه در دماي 500oC به فاز V2O5 تبديل شد. در مرحله ي بعد لايه هاي نازك اكسيد واناديم)(VOx در دو فشار 2 و 5 torr در دماي 450oC آنيل شدند.نتايج حاصل نشان داد كه فشار لايه نشاني تاثير چنداني بر ساختار كريستالي پوشش نهايي ندارد در عوض لايه نازك اكسيد واناديم )(VOxتهيه شده تحت فشار كندو پاش پايينتر داراي اندازه دانه كوچكتر و مقادير سختي و مدول يانگ بالاتر بود. سپس اثرات اتمسفر آنيل بر ريزساختار و خواص لايه هاي نازك اكسيد واناديم)(VOx تهيه شده در فشار كندوپاش 2 torr و آنيل شده در دماي 450oC مورد بررسي قرار گرفت. اتمسفر آنيل تاثير چنداني بر ساختار كريستالي لايه ها نداشت و هر دو لايه شامل مخلوطي از فازهاي VO2(M) و V2O5 بودند. احتمال آن مي رود كه بخشي از فازهاي شكل گرفته در سيستم به صورت آمورف باشند. لايه نازك اكسيد واناديم)(VOx آنيل شده تحت اتمسفر اكسيژن داراي اندازه دانه كوچكتر و خواص مكانيكي بهتر بود. نتايج حاصل از مطالعه حاصل نشان داد كه شرايط لايه نشاني و آنيل تاثير به سزايي بر ريزساختار و خواص مكانيكي لايه هاي نازك اكسيد واناديم(VOx) دارند.