تهيه و ارزيابي لا يه هاي نازك نيتريد كروم در سيستم كند و پاش مغنا طيسي با هد ف جايگزيني كروم سخت

Synthesis and evaluation of chromium nitride films in magnetron sputtering system with application to the substitution of hard chromium

به منظور بررسي امكانپذيري جايگزيني پوششهاي جديد با كروم سخت، لايه هاي نازك نيتريد كروم در سيستم كند و پاش تهيه شدند. نتايج بدست آمده نشان داد كه ريز ساختار پوششها به شدت به فشار نسبي گاز واكنشي وابسته است. با افزايش فشار نسبي گاز واكنشي ( N2)P در سيستم، در ابتدا فاز نيتريد شكل مي گيرد ولي با افزايش بيشتر گازهاي واكنشي، پوششها نظم كريستالي خود را از دست داده و حالت آمورف پيدا مي كنند. تغيير نسبت N2/Ar باعث كاهش اندازه ي دانه ي پوششها شد در حاليكه تاثير چنداني بر ثابت شبكه ي پوششها نداشت. سختي پلاستيك نمونه ها با افزايشنسبي گاز واكنشي افزايش يافت كه در ارتباط مستقيم با اندازه دانه ي پوششها و رابطه ي هال-پچ بود. اين رابطه در نمونه ي داراي بيشترين مقدار نيتروژن صادق نبود كه با اندازه ي دانه ي بيش از حد كوچك آن و افزايش عيب مرزدانه اي نسبت داده شد. نتايج بررسي مقاومت اكسايش پوشش CrN با بالاترين مقدار سختي نشان داد كه اين پوشش در دماي 600oC بطور كامل اكسيد و در دماي 800oC بطور كامل از سطح جدا مي شود. به نظر مي رسد كه با كنترل شرايط لايه نشاني دستيابي به پوششهاي CrN با خواص مكانيكي بهتر از كروم سخت امكانپذير است و اين پوشش مي تواند از نظر خواص مكانيكي جايگزين مناسبي براي كروم سخت باشد ولي از نظر مقاومت اكسايش اين پوشش جايگزين مناسبي براي كروم سخت نيست.