مطالعه خواص ساختاري، اپتيكي و الكتريكي لايه هاي نازك اكسيد روي آلايش شده با ناخالصي نيتروژن (ZnO:N) رشد يافته بر روي شيشه و لايه واسط ZnO به روش اسپري پايروليزيز

Study on the structural, optical and electrical properties of ZnO:N thin films grown on glass and ZnO buffer layer by spray pyrolysis method

لايه هاي نازك اكسيد روي آلايش يافته با ناخالصي نيتروژن (ZnO:N) به روش اسپري پايروليزيز بر روي شيشه و نيز لايه واسط اكسيد روي خالص در دماي 0C450 به روش اسپري پايروليزيز سنتز شدند. طيف XRD نمونه ها نشان دهنده رشد نمونه ها به صورت بس بلوري در فاز ششگوشي بوده در حالي كه جهتگيري ترجيحي رشد در آنها تغيير پيدا كرده است. اين تاثير گذاري در خواص اپتيكي لايه ها نيز بخوبي مشهود بوده به طوري كه عبور اپتيكي لايه ها كاهش و جذب نوري آنها افزايش يافته است. اين تغييرات بخوبي با توجه به تغييرات ابعاد بلورك ها و نيز تراكم ناراستي هاي بلوري در اين مواد سازگار است. خواص الكتريكي لايه ها رسانندگي الكتريكي بيشتري را در نمونه رشد يافته بر روي لايه واسط ZnO در مقايسه با نمونه رشد يافته بر روي زيرلايه شيشه نشان مي دهد.

Nitrogen doped zinc oxide (ZnO:N) thin films are synthesized on glass and pure ZnO buffer layer at 450 °C by spray pyrolysis method. The XRD spectra show the grown sles have polycrystalline nature in hexagonal phase while their preferred growth direction are changed. This affectness is clear in such a way that the transmittances of the layers are decreased and their absorbances are increased. These variations are well compatible with the variations in the crystallite size and also crystalline defect density in these materials. Electrical properties of the layers show a higher electrical conductivity in sle grown on ZnO buffer layer compared with other one which is grown on glass substrate.